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  • MGD20-20高低溫恒溫循環(huán)槽
    MGD20-20高低溫恒溫循環(huán)槽

    高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃),MGD20-20實(shí)現高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶(hù)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

    更新時(shí)間:2022-06-15型號:MGD20-20
  • G200系列高溫恒溫槽
    G200系列高溫恒溫槽

    高溫恒溫槽用于產(chǎn)品性能分析測試、計量檢定、化學(xué)反應工藝過(guò)程控制、普通溫度計及其它溫度測量?jì)x表制造中的定標用途。

    更新時(shí)間:2022-06-16型號:G200系列
  • MGD20-30高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃)
    MGD20-30高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃)

    高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃),MDG20-30實(shí)現高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶(hù)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

    更新時(shí)間:2020-06-30型號:MGD20-30
  • MD20-30I低溫小型恒溫水槽(-5℃~90℃)
    MD20-30I低溫小型恒溫水槽(-5℃~90℃)

    低溫小型恒溫水槽(-5℃~90℃)MD20-30I提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。

    更新時(shí)間:2022-06-16型號:MD20-30I
  • MGD40-12高低溫恒溫槽
    MGD40-12高低溫恒溫槽

    高低溫恒溫槽MGD40-12為用戶(hù)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源, 應用于-40℃~180℃(高至溫度195℃)石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用

    更新時(shí)間:2021-05-11型號:MGD40-12
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