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  • MGD20系列加熱制冷循環(huán)器 恒溫槽
    MGD20系列加熱制冷循環(huán)器 恒溫槽

    加熱制冷循環(huán)器(-20℃~180℃)$n實(shí)現高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶(hù)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

    更新時(shí)間:2022-10-18型號:MGD20系列
  • MGD40系列高低溫恒溫槽(-40℃~180℃)
    MGD40系列高低溫恒溫槽(-40℃~180℃)

    高低溫恒溫槽(-40℃~180℃)實(shí)現高溫195℃,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制,對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用,低使用溫度-40℃

    更新時(shí)間:2020-06-30型號:MGD40系列
  • MGD40-30加熱制冷循環(huán)裝置
    MGD40-30加熱制冷循環(huán)裝置

    MGD40-30-高低溫恒溫循環(huán)槽(-40℃~180℃)為用戶(hù)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源, 應用于-40℃~180℃(高至溫度195℃)石油化工、制藥等化學(xué)反應工藝過(guò)程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用

    更新時(shí)間:2021-05-11型號:MGD40-30
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